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Measurement of Channel Temperature in GaN High-Electron Mobility Transistors

机译:GaN高电子迁移率晶体管中沟道温度的测量

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摘要

In this paper, a simple and reliable method to estimate the channel temperature of GaN high-electron mobility transistors (HEMTs) is proposed. The technique is based on electrical measurements of performance-related figures of merit (I [subscript Dmax] and R [subscript ON]) with a synchronized pulsed I -V setup. As our technique involves only electrical measurement, no special design in device geometry is required, and packaged devices can be measured. We apply this technique to different device structures and validate its sensitivity and robustness.
机译:本文提出了一种简单可靠的方法来估算GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的沟道温度。该技术基于与性能相关的品质因数(I [下标Dmax]和R [下标ON])的电气测量,并具有同步脉冲I -V设置。由于我们的技术仅涉及电学测量,因此不需要对器件几何结构进行特殊设计,就可以测量封装的器件。我们将此技术应用于不同的设备结构并验证其灵敏度和鲁棒性。

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